首页/科技资讯/日本半导体光刻设备制造商 G… 科技资讯 来源 IT之家 日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统，号称回收率达 50% 2026-10-06 14:18 约 1 分钟 暂无评论 原文 本文为聚合摘要，来源 IT之家，版权归原作者所有；完整内容请阅读原文。 IT之家 10 月 6 日消息，据科技媒体 Tom’s Hardware 今天报道，日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 现已推出新型氖气回收系统 hTGM，用于氟化氩（ArF）准分子激光器。据报道，这套系统可实现 50% 氖气回收率，未来调整系统配置后，有望进一步提升… 查看原文：IT之家 原文出处：IT之家 阅读原文 更多「科技资讯」 订阅更新 阅读约 1 分钟 继续阅读 相关内容 科技资讯 卫浴大厂 TOTO 宣布斥资 600 亿日元建设半导体用途陶瓷工厂 11-02 科技资讯 :fire::fire: ApiGo 开源接口平台 Go 版本发布 11-02 科技资讯 PPTV创始人再创业做“算力版滴滴”，日均消耗token超万亿，却难赚到钱？ 11-02
还没有评论